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熱搜關(guān)鍵詞:
NSV40302PDR2G是ON Semiconductor(安森美)一款雙NPN中等功率晶體管,采用SOIC-8(NB)封裝,專為高密度、高可靠性應(yīng)用設(shè)計(jì)。該器件將兩個(gè)獨(dú)立的NPN晶體管集成于單一封裝內(nèi),適用于電源管理、電機(jī)驅(qū)動(dòng)、LED驅(qū)動(dòng)和開關(guān)應(yīng)用,特別適合空間受限的電路板布局。

器件采用8引腳SOIC-8 NB封裝(CASE 751-07),尺寸為5.00mm × 3.80mm × 1.75mm(最大),引腳間距1.27mm,符合工業(yè)標(biāo)準(zhǔn),便于自動(dòng)化貼裝。引腳1至4對(duì)應(yīng)第一個(gè)晶體管,引腳5至8對(duì)應(yīng)第二個(gè)晶體管,共享封裝內(nèi)部熱路徑,確保兩個(gè)器件溫度特性一致。
電壓額定值:集電極-發(fā)射極擊穿電壓V(BR)CEO為40V,集電極-基極V(BR)CBO為40V,發(fā)射極-基極V(BR)EBO為6V。
電流能力:連續(xù)集電極電流IC最大2A,脈沖電流更高。
工作溫度:結(jié)溫和存儲(chǔ)溫度范圍為-55°C至+150°C。
熱阻特性:熱阻RθJA(結(jié)到環(huán)境)隨PCB銅箔面積顯著變化:
10mm2、1oz銅(靜止空氣):217°C/W
100mm2、1oz銅(靜止空氣):185°C/W
雙器件加熱(總功率):191°C/W(10mm2)或160°C/W(100mm2) 建議在100mm2銅箔上使用以優(yōu)化散熱。
電流增益(hFE):在VCE=2V條件下,IC=10mA時(shí)hFE最小200;IC=500mA時(shí)最小200;IC=1A時(shí)最小180;IC=2A時(shí)最小180。典型值在320至400之間,提供高增益和穩(wěn)定放大能力。
飽和壓降:
VCE(sat):IC=1A、IB=0.1A時(shí),典型值44mV,最大60mV;IC=2A、IB=0.2A時(shí),典型值82mV,最大115mV。
VBE(sat):IC=1A、IB=0.01A時(shí),典型值780mV,最大900mV。
開關(guān)速度:在VCC=30V、IC=750mA、IB1=15mA條件下:
開通延遲td:≤100ns
上升時(shí)間tr:≤100ns
存儲(chǔ)時(shí)間ts:≤780ns
關(guān)斷延遲tf:≤110ns 快速開關(guān)特性適用于高頻PWM控制。
截止頻率(fT):IC=100mA、VCE=5V時(shí),最小100MHz,支持中高頻應(yīng)用。
漏電流:VCB=40V時(shí),ICBO≤0.1μA;VEB=6V時(shí),IEBO≤0.1μA,確保低靜態(tài)功耗。
電容:f=1MHz時(shí),輸入電容Cibo典型值320pF(最大450pF),輸出電容Cobo典型值40pF(最大50pF)。

并聯(lián)使用:雙晶體管可并聯(lián)以提升電流能力,但需注意均流和熱耦合。
基極驅(qū)動(dòng):需提供足夠基極電流(IB ≥ IC / hFE)確保飽和,避免工作在線性區(qū)導(dǎo)致過熱。
PCB布局:建議使用100mm2以上銅箔散熱,優(yōu)化熱性能。避免高阻抗基極走線,防止振蕩。
安全工作區(qū)(SOA):參考數(shù)據(jù)手冊SOA曲線,確保瞬態(tài)電壓電流不超出安全范圍,尤其在感性負(fù)載開關(guān)時(shí)。
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