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根據俄羅斯《消息報》8月7日的報道,中國在微芯片競爭中正逐漸趕上。據中國媒體披露,上海微電子有望在年底前推出28納米浸沒式光刻機。盡管這一新光刻機在技術上仍會落后于目前最先進的同類產品,但鑒于外國供應商的限制逐漸增加,中國的快速進步可謂正當其時。
美國政府于2022年10月7日發(fā)布半導體出口管制新規(guī),這一制裁是在中國半導體行業(yè)突破之際實施的。據了解,2022年夏天,中芯國際已經掌握了7納米芯片的生產工藝,使中國成為全球半導體(電子元器件)行業(yè)的領導者之一。

然而,中國目前面臨的主要挑戰(zhàn)不是芯片本身,而是生產芯片所需的工具,尤其是光刻機,因其具有壟斷性。極紫外線光刻機生產技術目前僅由荷蘭阿斯麥公司(ASML)掌握,沒有它就無法生產最先進、最現(xiàn)代的芯片。
美國正試圖實現(xiàn)雙重目標:遏制中國半導體行業(yè)的發(fā)展,并提升自身在全球市場的地位。然而,美國在這一領域遠遠落后,其芯片產量僅占全球約12%。為此,拜登政府通過了《芯片與科學法》,其中包括提供390億美元用于鼓勵在美國境內生產芯片,以及130億美元用于芯片研發(fā)。
只有未來才能證明這場“芯片戰(zhàn)”的結果。然而,目前來看,美國的制裁似乎并沒有給中國產業(yè)造成無法承受的損害。中國企業(yè)已儲備了足夠的設備和材料,可以維持一段時間。解決中國“卡脖子”問題將是一個緩慢的過程,但無疑會得到解決。
此外,荷蘭和日本并未急于采取與美國相同的嚴厲措施來對中國進行制裁,因為失去中國市場將對它們造成巨大打擊。還有人認為,限制向中國提供半導體設備只會迫使中國加倍努力構建自己的生產鏈。即使中國目前尚未擁有完整的生產鏈,但已非常接近。隨著在光刻機領域取得的新突破,中國制造的芯片將遠遠超過所需標準。
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